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拓真空屬于高端智能制造、半導體薄膜沉積的細分行業，目標是半導體行業真空鍍膜設備這個細分賽道的國內頭部企業。此賽道長期以來均被美國應用材料，日本愛發科，臺灣富臨等外資廠商壟斷。目前源拓真空已成功打破國外壟斷，技術團隊用極低的研發成本及極短的開發周期將設備開發成功，并成功在真空蒸發鍍膜設備上取得國內指標性客戶驗證合格并開始產生批量訂單，成功開發產業界應用最大的尺寸設備，助力半導體客戶進一步提高產能，降低成本，深受好評；國內眾多客戶都開始主動尋求深度合作，助力國內受制裁領域企業順利孵化并成功穩定量產，良率保障率極高；高端磁控濺射設備也已開發完成，高端磁控濺射市場長期被美國應用材料及日本愛發科等外資設備所壟斷，國內很多大型企業都在不斷加大投入研發過程中。該磁控濺射設備百億級美金市場，國內尚無企業具備生產制造能力，空間潛力巨大。 企業目前已于2025年10月20日順利落戶蘇州市相城區高鐵新城板塊，辦公總部位于中荷創新港，工廠位于AI+交通產業園。 目前企業已獲得國開創投，中華開發（臺積電股東背景），蘇創投產研院投資。